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반도체 EUV 핵심 소재 2종 양산 테스트 완료
언론에 따르면, 와이씨켐이 초미세 반도체 공정의 차세대 핵심소재로 개발한 극자외선(EUV) 광원용 소재 2종이 본격적인 상업생산에 들어간다고 3월28일 밝혔습니다. 와이씨켐이 양산 공급하는 소재는 금속산화물레지스트(MOR) 포토레지스트 전용 신너(Thinner)와 디벨로퍼(Developer)이며, 최근 국내 고객사의 양산 평가를 통과해 다음 달부터 본격적인 공급이 시작됩니다.
EUV MOR(Metal oxide resist)는 기존에 사용되는 유기 타입 극자외선(EUV) 포토레지스트를 대체할 무기 타입 포토레지스트로 차세대 공정용 소재입니다. 신너는 포토레지스트 스핀코팅 후 실리콘 웨이퍼 가장자리에 불필요한 이물질을 제거하는데 사용되는 소재이며, 디벨로퍼는 일종의 현상액으로 일정 부위 포토레지스트(PR. Photo Resist)를 제거해 패턴을 형성하는데 사용됩니다.
와이씨켐은 EUV MOR 소재 2종을 양산해 올해 국내 첫 공급을 준비 중입니다. 이로써, 와이씨켐은 MOR 신너와 디벨로퍼의 개발 및 양산을 시작으로 다양한 EUV 관련 사업으로도 포트폴리오를 확대할 예정입니다.ㅅ
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